HW2000工作站谱图处理方法（其他工作站可参考）

2026-04-15 15:07:53 小睿

一、背景与目标

项目	说明
原始谱图问题	基线上杂峰较多，水峰影响基线判断，峰面积和峰高不准确
处理目标	去掉杂峰，保留目标峰，准确判断峰起点/终点，保证峰高/面积测量准确
核心手段	①禁止判峰（去水峰干扰）②最小峰面积（去杂峰）③峰宽水平（调节终点判断）

步骤	名称	核心操作	关键参数/数据	效果
1	解决水峰干扰	设置“禁止判峰”区域	时间范围：0分钟开始（手动修改处理表时间）	基线不再以水峰为起点
2	确定禁止判峰终点 + 峰分离起点	在氟离子峰前左键点击，执行“峰分离”	该时间点作为禁止判峰终点与峰分离起点	每个峰独立起点（绿）/终点（红）
3	过滤杂峰	设置最小峰面积	参考值：2000–5000μS.s（不超过最小目标峰面积）；修改后点击黄色“再处理”	杂峰消失，目标峰保留
4	改善基线判断（峰宽递增）	调节起始峰宽水平 + 峰宽递增速度	起始峰宽水平：1（以第一个峰为基准）；递增速度：5（根据实际调整）；修改后点击“再处理”	大峰终点判断准确，峰面积准确
5	保存模板	填写组份表，保存模板		后续可自动处理

步骤1：禁止判峰（去水峰干扰）

原因：水峰是最低点，软件自动将其作为基线起点，导致所有峰面积/峰高不准。

操作方法：

鼠标左键点击谱图任意点 → 谱图处理工具栏激活（由灰变黑）。

点击“禁止判峰”（或右键菜单）。

默认从点击点开始禁止判峰，需手动将谱图处理表中的时间改为 0（从0分钟开始禁止）。

效果：见图4、图5。

步骤2：峰分离处理

操作：在氟离子峰前左键点击 → 点击“峰分离”。

作用：

该时间点成为步骤1的禁止判峰终点 + 步骤2的峰分离起点。

适用于所有峰基线分离的情况，每个峰独立起点（绿色）、终点（红色）。

注意：执行后仍会有许多独立小杂峰（见图7）。

步骤3：最小峰面积过滤杂峰

参数设置原则：

查看需要检测的最小目标峰面积。

设置的最小峰面积 ≤ 该值。

推荐范围：2000–5000μS.s（本例设为2000）。

生效方式：修改后点击工具栏黄色“再处理”按钮。

效果：杂峰消失，目标峰全部检出（见图8）。

步骤4：调节峰宽水平（解决峰终点不准确问题）

问题：三个大峰终点判断不准确，峰面积偏小（见图8、图9）。

原理：色谱峰从前到后越来越宽，需要两个参数配合：

起始峰宽水平：以第一个峰为基准，从1开始增加，直到第一个峰终点判断准确。

峰宽递增速度：用于后续峰的终点判断。

本例参数：

起始峰宽水平 = 1

峰宽递增速度 = 5

注意：不同分析条件参数会有差异，需根据实际情况调整。

生效方式：修改后点击黄色“再处理”按钮。

最终效果：见图10。

步骤5：填写组份表并保存模板

操作：填写组份表内容，保存为模板，后续可自动处理。