简单几步完成HW2000谱图处理

2018-09-11 06:42:49 9

本文针对HW2000工作站谱图处理相关内容展开。使用其它工作站的用户可参考。

在没有经过处理前,我们的看到的谱图如图1和图2所示,基线上杂峰较多,水峰影响基线的判断,峰面积和峰高不准确。

谱图处理的目标就是去掉杂峰,留下我们需要的峰,并且对这些峰的起点和终点准确判断,以保证峰高和面积准确测量。

通过将谱图开始到氟峰前的这一段禁止参与判峰,来去掉水峰的干扰,通过最小峰面积来去掉杂峰,最后使用峰宽水平来调节峰的终点判断。

离子色谱|动态量程电导检测器|可替代进口的国产抑制器

图1.未处理谱图

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图2.水峰影响基线判断

可以通过五步完成谱图的处理:

第一步,解决水峰对基线判断的影响

如图2所未,谱图基线判断以水峰为起点,结束点为终点,所有峰的面积和峰高判断都不准确。软件总是按照一定的参数来处理谱图,水峰是最低点,所以系统认为水峰是起点。

我们可以将水峰这一段设置为禁止判峰来去掉它的干扰,要用到“禁止判峰”的谱图处理项,我们可以通过工具栏找到它也可以通过在谱图区点击右键找到它,如图3所示。

操作方法:使用鼠标左键在谱图区域任意点击一点,图3所示的谱图处理工具栏由灰色变为黑色可用状态,此时将鼠标放在工具上悬停会显示工具名称,点击“禁止判峰”,此时我们鼠标点击的那一点之后全部做了禁止判峰的处理,在谱图处理表中产生一条记录,如图4所示。以上操作还可以通过鼠标右键菜单来完成。

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图3.禁止判断处理

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图4.禁止判峰后效果

手动将谱图处理表中的时间改为0,就可以从0分钟时开始禁止判峰的处理,如图5所示。

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图5.将禁止判断时间修改为0

第二步,确定禁止判峰的终点和峰分离起点

操作方法:在氟离子前左键点击一次以确定一个时间点,此时工具栏相关处理工具被激活,点击“峰分离”。这一时间点既是第一步禁止判峰的终点,又是第二步峰分离的起点,如图6所示。

峰分离处理适应于所有峰基线分离的情况下,每个峰有独立的起点和终点,起点是绿色,终点是红色。

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图6.峰分离处理

执行"峰分离"操作后,自谱图起点到峰分离起点的一段被禁止判峰,去掉了水峰对基线的干扰,在谱图处理表中又增加了一行,可是峰分离后的谱图有很多独立的小杂峰,又该如体处理?如图7所示。

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图7.杂峰

第三步,设置最小峰面积过滤杂峰

最小峰面积参数用于过滤低于设定值的杂峰,如果设置过高会将我们需要的峰过滤掉,如何设置合适的值如图8所示,查看我们需要检测的最小峰的面积,我们的最小峰面积只要不超过这个值就可以。本例设置2000,通常我们设置在2000-5000之间就可以。最小峰面积修改后,需要点击工具栏上的黄色“再处理”按钮才会生效。

通过图8可以看到,杂峰没有了,需要的峰都被检测到了。

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图8.最小峰面积

第四步,调节峰宽水平改善基线判断

从图8中我们可以看到,三个大峰的终点判断不准确,峰面积偏小,图9用红线模拟出了相对准确的基线,如何处理才可以让软件更加准确呢?

我们知道,色谱出峰从前到后峰会越来越宽,所以通过一个参数来规定终点的判断会有问题,软件为我们提供了两个相互配合的参数,“起始峰宽水平”和“峰宽递增速度”,来解决峰宽递增的问题。

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图9.模拟基线

起始峰宽水平的设定我们通常以第一个峰做为基准,从1开始增加,当第一个峰可以准确判断时,这时的值即为合适值,然后我们增加峰宽递增速度的设定值来确定后面峰的判断。本例起始峰宽水平为1,峰宽递增速度为5,不同的分析条件参数会有差别,请大家根据实际情况设定。两个参数修改后,需要点击工具栏上的黄色“再处理”按钮才会生效,至此谱图处理结束。
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图10.调节峰宽水平后的情况

第五步,填写组份表中内容然后保存模板

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